第56期“微纳技术及前沿应用”交叉论坛于上海交叉学科研究中心成功召开

2014/06/11 | 【 【打印】【关闭】 | 访问次数:

2014527-28日于中国科学院上海交叉学科研究中心成功召开了第56期微纳技术及前沿应用交叉论坛。该论坛由中国科学院上海交叉学科研究中心资助,上海应用物理所物理与环境科学部承办,邰仁忠研究员为该论坛的主席。论坛由来自同济大学、新加坡国立大学、浙江大学、苏州大学、中科院上海技术物理所、中科院上海光学精密机械所、中科院半导体所、中科院微电子所、中科院理化所、中科院化学所和中科院上海应用物理所等11个单位的40多位代表组成。 

论坛分“小周期结构制备关键技术”、“先进光电子器件的研究”和“基于纳米周期性结构的其它前沿应用”三个主题。同济大学的王占山教授、新加坡国立大学的Herbert O.Moser、浙江大学的张冬仙教授、苏州大学的孙旭辉教授、中科院半导体所的赵丽霞教授等20位代表分别就相关研究领域的背景、科学问题及将来的发展方向,以及对XIL光刻线站的需求等进行了详细的介绍。与会代表就利用XIL技术可开展的前沿方向和重要应用展开了热烈的讨论和交流,就周期性结构制备方法和后处理问题,XIL线站工作人员进行了详细的介绍和解答。

通过本次论坛,基本明确了XIL光刻线站将来的应用发展方向,凝练出了相关的关键问题和预期的相关研究成果,例如利用微纳偏振结构发明先进的红外探测器,微纳结构提高闪烁体探测器效率、可制备大面积超高透射率减色滤波器、新型微纳半导体光电器件等。通过本次论坛大大增强了上海光源软X射线光刻线站和用户之间的紧密合作!(物理与环境部供稿)



交叉学科研究中心副主任章文峻讲话


论坛主席邰仁忠研究员介绍举办该论坛的目的


论坛合影

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