设备简介：
X射线吸收谱技术是研究复杂组分体系中特定元素近邻配位结构和电子结构的重要手段。该台式X射线吸收谱仪，无需同步辐射光源，对于元素吸收边能量在5-18keV范围，在常规实验室环境中实现了的X射线吸收精细结构测量和分析，此外，该设备还能够进行X射线发射谱测试(XES)，该表征本质上是超高能量分辨率的X射线荧光光谱(high-resolution XRF)。XAFS和XES可以对样品的局部电子结构实现信息互补，为制氢材料分析检测提供技术支持。
技术指标：
工作模式：穿透模式硬线XAFS，XES（高分辨XRF）
能量范围：5-12Kev，可达19Kev
保护盒：配置钢制防护罩，实现自屏蔽功能,周围环境辐射剂量＜1 μSv/h；
铝制氦气通路保护X射线路径损失
X射线源：1.2 kW XRD射线管，100W XRF射线管
球面晶体（Si/Ge）：0 cm直径，50 cm曲率半径
分辨率：0.5-1.5ev（7-9Kev）
重复性：＜50mev能量尺度漂移，无需单色仪校准
光通量：XES：浓缩样品岩心孔生成率1012/s (最大加速电压不低于35keV，最大电流不低于4mA)，
主要功能：
测试样品内指定元素的X射线吸收谱及发射谱
管 理 员：于海生
联系方式：021-39194251
邮 箱：yuhaisheng@sinap.ac.cn
